普雨科技躋身納米壓印領(lǐng)軍行列，獲數(shù)億元融資，彌補國內(nèi)技術(shù)空缺。

一直以來，高端光刻設(shè)備是阻礙我國芯片產(chǎn)業(yè)升級的難題。在全球半導(dǎo)體行業(yè)聚焦納米壓印這一突破性技術(shù)路線時，蘇州工業(yè)園區(qū)的一家新興企業(yè)正快速發(fā)展。

成立剛一年多的普雨科技（蘇州）有限公司，依托二十多年的技術(shù)積累與成果轉(zhuǎn)化，已接連完成三輪融資，累計融資金額達數(shù)億元。公司股東包含藍馳創(chuàng)投、元禾原點、啟賦資本等知名財務(wù)投資機構(gòu)，招商局創(chuàng)投等產(chǎn)業(yè)投資機構(gòu)，以及元禾控股、上?？苿?chuàng)基金等政府投資平臺。在“財務(wù)+產(chǎn)業(yè)+政府”多方協(xié)同助力下，公司迅速成長為國內(nèi)納米壓印光刻設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)，為國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備突圍開辟了全新賽道。

行業(yè)迎來產(chǎn)業(yè)化轉(zhuǎn)折，國際巨頭推動技術(shù)商業(yè)化進程

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的競爭，關(guān)鍵在于高端裝備的競爭。光刻作為芯片制造中技術(shù)最復(fù)雜、成本最高的核心環(huán)節(jié)，成本占總生產(chǎn)成本的30%以上，生產(chǎn)周期占比接近50%。長期以來，我國在先進制程光刻設(shè)備領(lǐng)域受海外技術(shù)壟斷限制，而納米壓印技術(shù)的興起為打破這一局面提供了歷史性機遇。

和傳統(tǒng)EUV光刻機相比，納米壓印設(shè)備采購成本僅為前者的幾分之一，還能降低40%的制造成本，同時具有超高分辨率和低能耗的明顯優(yōu)勢，被業(yè)界看作有望替代EUV的下一代光刻核心技術(shù)方向。目前，國際半導(dǎo)體設(shè)備巨頭已推動納米壓印技術(shù)實現(xiàn)商業(yè)化突破，相關(guān)設(shè)備已引入海力士、鎧俠等全球存儲巨頭，這標志著該技術(shù)正式進入產(chǎn)業(yè)化轉(zhuǎn)折期。

行業(yè)頂尖團隊引領(lǐng)，填補國內(nèi)技術(shù)空白

普雨科技創(chuàng)始團隊在納米壓印與半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域深耕多年，聚集了一批在光刻技術(shù)、精密制造、半導(dǎo)體工藝及產(chǎn)業(yè)化落地等方面的資深專家，擁有頂尖的技術(shù)研發(fā)能力、成熟的工程化經(jīng)驗和市場化開拓能力。

公司已建立覆蓋軟硬件開發(fā)、精密工藝、機械設(shè)計、供應(yīng)鏈管理及客戶端交付的全鏈條精英團隊。核心成員均來自國內(nèi)外知名半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)，在高精度套刻、光刻精度、良率管控等關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域有長期技術(shù)積累和量產(chǎn)落地經(jīng)驗，形成了從前沿技術(shù)研發(fā)到產(chǎn)業(yè)化落地的完整能力閉環(huán)。

作為產(chǎn)業(yè)化落地的標志性產(chǎn)品，普雨科技首臺套納米壓印光刻設(shè)備已進入總裝調(diào)試的關(guān)鍵階段。該設(shè)備將率先應(yīng)用于AI與光互聯(lián)這一戰(zhàn)略領(lǐng)域，搭載多項自主研發(fā)核心技術(shù)模塊，在對準精度、壓印速率等關(guān)鍵性能指標上都達到領(lǐng)先水平，可廣泛用于下游多個場景。

公司表示，將抓住納米壓印技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的關(guān)鍵時機，以“技術(shù)攻堅+產(chǎn)業(yè)落地”雙輪驅(qū)動，加快核心設(shè)備迭代和規(guī)?；桓?，為我國高端裝備產(chǎn)業(yè)突破技術(shù)瓶頸、實現(xiàn)高質(zhì)量發(fā)展注入自主創(chuàng)新動力，開辟差異化競爭新賽道。

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