2026年開春，日本產(chǎn)業(yè)界傳來一則震撼消息：百年光學(xué)巨頭尼康2025財年預(yù)虧850億日元，創(chuàng)下公司史上最大虧損紀(jì)錄。這一數(shù)字再次讓日本產(chǎn)業(yè)顏面掃地。

尼康將虧損歸咎于3D打印機(jī)業(yè)務(wù)拖累，但外界更關(guān)注其光刻機(jī)業(yè)務(wù)的慘淡表現(xiàn)：過去半年僅售出9臺，且多為成熟制程設(shè)備。而荷蘭ASML同期高端EUV光刻機(jī)就賣了20多臺，總出貨量達(dá)160臺。9與160的差距，堪稱尼康的挽歌。

東京尼康總部會議室里氣氛凝重，會長馬立稔和面色憔悴。作為公司光刻機(jī)技術(shù)核心高管，他見證過尼康的輝煌，如今的慘淡更讓他痛心。

回溯至1980年代，尼康正值鼎盛時期，在專業(yè)相機(jī)與半導(dǎo)體光刻機(jī)領(lǐng)域雙雙登頂全球。其光刻機(jī)精度被譽(yù)為“在富士山頂命中東京街頭縫衣針”，壟斷全球半壁江山，美國GCA因此破產(chǎn)，ASML當(dāng)時只是夾縫求生的小玩家。全球芯片巨頭為求尼康光刻機(jī)，不惜成立對接團(tuán)隊常駐硅谷分部，甚至老板蹲點預(yù)付全款。

尼康的衰落藏在關(guān)鍵人物的博弈中，2002年是轉(zhuǎn)折點。當(dāng)時臺積電資深處長林本堅提出浸沒式光刻機(jī)構(gòu)想：在鏡頭與晶圓間注水，利用水的高折射率突破193nm干式光刻機(jī)瓶頸。這一路線成本低、效果好，卻遭尼康高管集體反對。他們認(rèn)為精密鏡頭泡水是對光學(xué)工程的褻瀆，且已在157nm干式技術(shù)投入7億多美金，轉(zhuǎn)向?qū)⑶肮ΡM棄。尼康不僅拒絕，還試圖封殺該構(gòu)想，甚至向臺積電投訴林本堅“破壞行業(yè)共識”。

碰壁后的林本堅前往荷蘭，ASML技術(shù)靈魂馬丁·范登布林克對其想法欣喜若狂，押注所有資源聯(lián)合臺積電攻克技術(shù)。2004年ASML浸沒式光刻機(jī)問世，橫掃市場，尼康高端市場份額盡失。

浸沒式技術(shù)失利后，尼康寄望EUV（極紫外光）技術(shù)翻盤。馬立稔和主導(dǎo)EUV預(yù)研，提出“全自研、全日本產(chǎn)”，日本政府也以“產(chǎn)官學(xué)”模式投入數(shù)百億日元支持。但ASML早已聯(lián)合英特爾、三星、臺積電及德國蔡司、美國Cymer等全球產(chǎn)業(yè)鏈形成EUV聯(lián)盟，美國還將日系廠商排除在外，切斷技術(shù)通道。尼康的全自研淪為閉門造車，至2018年投入超千億日元僅得無法商用的原型機(jī)，最終終止EUV商業(yè)化開發(fā)。

尼康的悲劇本可避免：傲慢與盲目自信使其錯失浸沒式技術(shù)，后又迷信全自研陷入封閉。如今ASML領(lǐng)先，中國廠商蠶食中低端市場，尼康只能夾縫求生。2025年9月，尼康關(guān)閉運(yùn)營58年的橫濱工廠，70歲的馬立稔和即將卸任，標(biāo)志著日本光刻機(jī)時代落幕。他或許會想：“當(dāng)年若給林本堅一次試驗機(jī)會……”尼康的失敗，是日本產(chǎn)業(yè)“加拉帕戈斯化”的縮影——科技產(chǎn)業(yè)中，傲慢、封閉比技術(shù)落后更危險，拒絕開放只會淪為進(jìn)化孤島。